铁电材料 因 具有稳定的自发极化，且 在外加电场下具有可切换的极化特性 ，在 非易失性 存储器、传感器、场效应晶体管以及光学器件等方面具有广阔的应用前景。 与传统的三维铁电材料 不同，二维 范德华 层状 铁电材料 表面 没有 悬空键，这可降低表面能，有助于实现更小的器件尺寸。 此外，传统三维 铁电 薄膜的外延生长需要合适的具有小的晶格失配的基材 ， 而在二维层状材料中，许多具有不同结构特性的层可以被堆叠并用于 铁电 异质结构器件，不受基底的限制， 从而 提供了广泛的 铁电 特性可调性。 某些二维层状材料已在实验或理论上被报道为铁电材料，包括薄层 SnTe、 In 2 Se 3 、 CuInP 2 S 6 、 1T单层 MoS 2 、双层或三层 WTe 2 、铋氧氯化物和化学功能化的二维材料等 。 然而，目前对二维材料铁电畴结构的调控及铁电 -反铁电相变等方面缺乏系统性研究 ， 在 范德华层状 材料中实现连续的 铁电 域可调性和 铁电 - 反铁电相 转变仍是挑战。

近日，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员康黎星团队与中国人民大学教授季威团队、南方科技大学副教授林君浩团队、松山湖材料实验室副研究员韩梦娇合作，在新型二维铁电材料铁电畴结构的调控方面取得进展。 该团队发现了一种具有室温本征面内铁电极化的新型二维材料 Bi 2 TeO 5 ，并观测到由插层铁电畴壁诱导的铁电畴大小、形状调控机制 以 及由此产生的铁电相到反铁电相的转变。 科研人员 采用 CVD法合成新型的 超薄 室温二维铁电材料 Bi 2 TeO 5 ， 通过压电力显微测（ PFM）证实该材料存在面内的铁电畴结构，结合电子衍射及原子尺度的能谱分析和第一性原理计算结果对其结构进行解析，结合像差校正透射电镜对亚埃尺度的离子位移进行分析（图1）。 对 Bi 2 TeO 5 中畴结构的进一步研究发现，样品中存在大量的条状畴结构。 原子尺度结构分析和计算结果表明，由于 Bi/Te插层的存在，有效降低了畴壁的应变能，从而使得180°畴壁的条状畴能够稳定(图2)。 研究表明，通过调控前驱体中 Bi 2 O 3 和 Te的比例可以有效实现180°铁电畴宽度的调控及实现铁电-反铁电相的反转（图3、图4）。 此外，Bi/Te插层的引入除了能够改变铁电畴的大小，同时可以对畴壁的方向进行调控（图5）。

本研究对 Bi 2 TeO 5 室温面内铁电性的报道丰富了本征二维铁电材料体系。 原子插层作为新的调控单元对铁电畴大小及方向的调控，以及由此产生的铁电 -反铁电相变，为二维铁电材料畴结构及相结构的调控提供了新思路，并为在未来纳米器件领域的应用奠定了新的材料基础。 相关研究成果以 Continuously tunable ferroelectric domain width down to the single-atomic limit in bismuth tellurite 为题，发表在《自然-通讯》（ Nature Communications ）上 。

图1.二维层状铁电材料Bi2TeO5的CVD生长及结构表征。a、二维层状Bi2TeO5的光镜图；b-c、样品的表面形貌及对应的面内PFM图像；d-f、不同方向Bi2TeO5的结构模型以及铁电极化的产生；g-I、Bi2TeO5的原子尺度结构表征及对应的极化分布。

图2.Bi/Te插层诱导的180°铁电畴的形成。a、Bi2TeO5中典型条状180°铁电畴的面内PFM；b、180°铁电畴壁的原子尺度HAADF-STEM图；c-e、180°铁电畴壁处铁电离子位移（DBi）及晶格畸变(晶格转角θ)的原子尺度分析；f、弛豫后180°铁电畴的结构模型。

图3.插层对畴宽度的调控及铁电相到反铁电相的转变。a-d、具有不同周期的180°畴HAADF-STEM图像；e-h、分别为对应图a-d中的离子位移分布。

图4.插层诱导的反铁电相。a、具有反铁电性样品的PFM；b-d、反铁电样品中的原子尺度极化分布及晶格畸变分析；e、弛豫后的反铁电相结构模型。

图5.畴壁台阶的形成及插层对畴壁取向的影响。a-b、样品中扇形铁电畴的面内PFM图像；c、扇形铁电畴边缘处大量台阶形成的倾斜畴壁面；d-e、畴壁台阶的原子尺度HAADF-STEM图像及对应的离子位移分析；f、弛豫后的畴壁台阶结构模型；g、Te和O浓度对畴壁台阶形成焓的影响。

来源：中国科学院脑苏州纳米技术与纳米仿生研究所

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